再次确认中芯国际使用ASML的DUV光刻机量产14nm工艺芯片

原标题:再次确认中芯国际使用ASML的DUV光刻机量产14nm工艺芯片中芯国际14纳米的制程工艺以经在2019年实现量产,14纳米制程工艺的成功应用证明了中芯国... ...

原标题:再次确认中芯国际使用ASML的DUV光刻机量产14nm工艺芯片

中芯国际14纳米的制程工艺以经在2019年实现量产,14纳米制程工艺的成功应用证明了中芯国际已经掌握了与14纳米制程芯片有关的全部工艺和技术,而这些工艺和技术被掌握的意义几乎比得上先进光刻机。同样的光刻机,在不同的公司生产出来的芯片制程工艺就不同。比如台积电可以用DUV光刻机生产出7纳米制程工艺的芯片,而三星就不行,这就说明了,在同样的设备下,制造工艺和技术也很重要。所以说中芯国际可以量产14纳米制程工艺的芯片,对以后向7纳米,5纳米,3纳米制程工艺推进的意义很大。

只不过中芯国际14纳米制程工艺用的光刻机还不是国产,而是从ASML进口的DUV光刻机,从这个角度上来看,中芯国际在芯片制造上想要去美国化,还要依靠国内光刻机的突破。上海微电子仍然处于90nm制程工艺的光刻机。不过最起码中芯国际现在掌握了制造14纳米芯片的所有技术,到时只需要将ASML的光刻机,换成国产设备即可。

事实上除了手机,电脑对芯片的制程要求较高外,其他行业的芯片对芯片的制程并不像手机和电脑那样苛刻,14纳米,28纳米完全可以满足性能需求,其实中芯国际量产14纳米的芯片只能解决国内14纳米芯片供应的问题,也可以带动就业,获得更多的订单。

另外就是可以提升国防工业,机械行业所用芯片的性能,尤其是军备所需要的芯片,保密性要求极高,不可能用进口芯片。要知道国产光刻机最小的制程也只是90纳米,也就是说军备所需的芯片也只能停留在90纳米制程上,不过随着中芯国际解决14纳米制程工艺,那么当国产光刻机被应用后,就可以不受制裁的为军备量产先进的芯片。

尽管军用芯片对制程工艺要求不高,只是对耐高温性能,可靠性有极高的要求,但是随着信息化的发展,装备也需要处理更多的信息,性能越好的芯片就可以又好又快的处理更多的信息,从而获得信息上的优势,机械行业也正是如此。中芯国际量产的14纳米制程工艺的芯片,可以起到鼓励国内高科技发展的作用,但是再多就没什么作用。

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